피케이엘은 31일 도시바기계로부터 Electron Beam Mask Lithography System을 147억7천만원에 취득키로 했다고 공시했다. 피케이엘측은 0.15-0.11㎛ 그레이드의 최첨단 반도체용 포토마스크의 생산능력 증대를 위해 구입했다고 설명했다. 취득예정일은 오는 11월15일이다. [한경닷컴]