한화석유화학(대표 신수범)은 반도체 CMP공정에 투입되는 '산화막 연마용 슬러리'(CMP SLURRY) 생산능력을 종전 연간 2천t에서 4천t으로 늘리는 공사를 완료하고 4일 대덕에 있는 한화석화 중앙연구소에서 준공식을 가졌다고 밝혔다. 국내에서 소비되는 CMP 슬러리는 그간 전량 수입에 의존해오다 작년 4월 한화석유화학이 국내 최초로 개발에 성공한 후 같은해 10월 연산 2천t의 생산시설을 구비, 국내 업체에 공급하기 시작했다. 한화석화의 CMP 슬러리는 수입품에 비해 산화막 연마능력이 뛰어나고 반도체 웨이퍼의 손상도 극히 낮으면서 중금속 이온의 함유량이 적은 등 환경친화성이 우수해 수요가 급증세라고 회사측은 설명했다. CMP 슬러리는 반도체의 CMP공정에 사용되는 재료로 세계시장 규모가 작년 2억5천만 달러에 달했으며 오는 2005년에는 10억달러에 이를 것으로 예상된다. 국내시장도 금년 500억원 규모에서 매년 30-40%의 고성장이 예측돼 한화석유화학은 내수시장 점유율 확대와 해외시장 확충을 위해 2003년까지 연산능력 1만t 규모로 생산설비를 증설할 예정이다. 'CMP(Chemical Mechanical Planarization)공정'이란 차세대 반도체의 초정밀도를 충족시키기 위한 필수공정으로 국내에서도 최근 64-D램 이상의 반도체 생산공정부터 본격 사용되고 있다. 한화석화 관계자는 "앞으로 현재의 CMP 슬러리 성능을 더욱 향상시키는 노력을 기울이면서 동시에 차세대 슬러리인 STI용 슬러리, 메탈 슬러리, 콜로이달 슬러리 등의 개발을 2003년까지 완료해 2005년에는 국제시장 수요의 30%를 점유, 세계 3대 슬러리 전문 메이커가 될 것을 목표로 하고 있다"고 말했다. (서울=연합뉴스) 유택형기자 apex2000@yna.co.kr