반도체 세정장비업체 케이씨텍은 세계최초로 극저온 CO₂(이산화탄소)를 이용한 최첨단 세정장비 개발에 성공했다고 14일 밝혔다.

이 기술은 기존의 화학적 세정기술에 비해 유해 폐기물 배출이 전혀 없고 세정속도가 크게 단축되며 세정표면에 손상을 주지 않는다. 세정력이 우수해 300mm 웨이퍼 가공 등 고집적 반도체 제조에 대응할 수 있다.

케이씨텍 관계자는 "그 동안 기술적 어려움 때문에 세계 어느 기업도 상용화에 성공하지 못했다"며 "그 응용범위가 반도체 및 LCD산업뿐 아니라 표면세정이 필요한 모든 산업에 적용될 수 있어 부가가치 창출이 기대된다"고 말했다.

이어 그는 "이미 이 기술을 적용한 유기EL 셀 크리너(Cell Cleaner)를 제작하고 있다"며 "이달중 삼성SDI에 납품할 예정"이라고 덧붙였다.

한편 케이씨텍은 이 기술로 지난 1999년에 3건, 지난해 4건, 올해 1건 등 총 8건의 특허를 국내에 출원했다. 지난 10일 개최된 ''2001년 직무발명 경진대회''에서 최고상인 대통령상을 수상하기도 했다. 현재 미국, 일본 등 해외특허 출원을 진행중이다.

한경닷컴 김은실기자 kes@hankyung.com

ⓒ 한경닷컴, 무단전재 및 재배포 금지