세계 최대의 반도체업체인 미국 인텔이 세계최초로 65 나노미터 공정기술을 적용한 반도체공장 건설작업에 착수했다고 니혼고교(日本工業)신문이 6일 보도했다. 이 신문에 따르면 인텔은 최근 공식발표를 통해 미국 오리건주에 65나노미터의 초미세 가공기술과 300㎜ 웨이퍼 공정을 적용한 새 반도체공장 건설작업을 시작했으며 오는 2005년 본격 가동할 계획이라고 확인했다. 65 나노 공정기술을 적용한 공장건설은 전세계에서 처음으로 정확한 투자액수는 확인되지 않았으나 최소한 최근 가동한 뉴멕시코주 공장의 건설액인 20억달러 수준에 달할 것으로 예상됐다고 니혼고교는 전했다. 전문가들은 일본 도시바(東芝)와 소니가 최근 65나노 공정기술을 공동개발했다고 밝힌데 이어 인텔이 실제로 공장건설을 시작함으로써 전세계 반도체 생산업계에서 초미세공정 개발 경쟁이 격화될 것이라고 전망했다. 한편 인텔은 내년 오리건주에 300㎜ 웨이퍼공정과 90나노기술을 적용한 공장을 가동키로 했으며 동시에 뉴멕시코주, 캘리포니아주 공장 등의 공정 기술을 현재 130나노에서 90나노 수준으로 업그레이드할 방침이라고 이 신문은 전했다. (서울=연합뉴스) 이승관기자 humane@yna.co.kr