반도체 탄탈룸막 장비...아펙스, 현대전자 공급
회사측은 "탄탈룸막(Ta205)은 실리콘질화막(Si3N4)보다 전하 보존 용량이 3배 이상 많아 0.15㎛이하의 반도체를 제조하는 데 적합하다"며 "초고집적화가 필요한 2백56메가D램부터는 유전율(誘電率)이 높은 탄탈룸막을 증착해주는 장비를 사용해야 한다"고 설명했다.
(031)715-8960
이방실 기자 smile@hankyung.com
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