LG반도체는 포항공대와 공동으로 기가급 반도체 제조용 방사광
노광기술 개발에 착수했다고 30일 발표했다.

LG는 이날 포항공대에서 "X선 노광기술 연구센터" 개소식을 갖고 본격
가동에 들어갔다.

이 회사는 올해말까지 4백억원을 투자, 회로간 폭이 0.8미크론
(1미크론은 1백만분의 1m)인 1기가D램 제조용 노광기술을 개발키로 했다.

또 0.12미크론급 (4기가 D램용)노광기술은 오는 2003년까지 확보키로
했다.

노광은 강력한 빛을 사용,반도체 원재료인 웨이퍼 위에 회로를 그리는
기술이다.

메가급에서는 주로 자외선을 이용했으나 회로선폭이 좁은 기가급에서는더
강한 빛을 사용해야 할 것으로 지적돼 왔다.

방사광 X선은 일반 의료용 X선보다 1백만배 밝은데다 파장이 짧고
투과도가 높은 빛이다.

LG와 포항공대가 공동으로 개설한 연구센터는 포항공대가 국내에서
유일하게 보유하고 있는 <>방사광 가속기를 활용한 전용빔라인과 <>클린룸
<>X5선 전용 노광장비 등을 갖추고 있다.

LG는 이와 별도로 기가급 노광기술 프로젝트를 수행할 "LG연구동"을
포항공대내에 오는 97년 10월까지 설치할 계획이다.

<조주현기자>


(한국경제신문 1996년 5월 31일자).