삼성전자가 낸드플래시 등 폭발적으로 늘고 있는 메모리반도체 수요에 대응하기 위해 신규 라인을 증설키로 했다. 삼성전자는 내년 초부터 경기도 화성사업장에 들어서는 메모리반도체 생산라인인 15라인의 설치에 6369억원을 투자키로 했다고 21일 밝혔다. 회사 관계자는 "이번 투자는 15라인의 기초 골조공사 및 클린룸 설치에 들어가는 비용"이라며 "내년 하반기부터 15라인에서 메모리반도체 본격 양산에 돌입할 것"이라고 말했다. 이번 15라인은 첨단 공정인 300mm 웨이퍼 라인으로 D램과 낸드플래시 등 메모리반도체를 양산하게 된다. 15라인이 본격 가동을 시작할 경우 삼성전자는 기존 12X13X14라인을 합쳐 총 4개의 300mm 웨이퍼 메모리반도체 생산라인을 확보하게 된다. 특히 삼성전자는 이번 15라인에서 최근 수요가 급증하고 있는 낸드플래시를 주로 양산할 것으로 전해졌다. 이태명 기자 chihiro@hankyung.com