반도체 장비 제조업체인 세메스(옛 한국ＤＮＳ·대표 이승환)가 시간당 4백장 이상의 웨이퍼를 처리할 수 있는 반도체 습식 세정장비를 국내 최초로 개발했다. 세메스는 기존 세정장비보다 크기는 반으로 줄이고 시간당 4백장 이상의 웨이퍼를 처리하는 차세대 습식 세정 장비인 '오션'을 개발했다고 18일 밝혔다. 반도체 습식 세정 장비는 반도체 제조과정에서 웨이퍼 표면에 발생하는 미립자와 불순물을 제거하는 데 쓰인다. 이승환 세메스 대표는 "2년간 50억원의 개발비가 투입된 이 장비는 웨이퍼 처리기능을 2배로 향상시켰고 장비 제작기간을 30％ 단축시켰다"며 "이달 공정평가를 거쳐 올 하반기부터 양산에 들어가 연간 5백억원 이상의 매출을 올릴 계획"이라고 말했다. 세메스는 지난해 매출액 2천48억원에 94억원의 영업이익을 기록했다. 이 회사는 이번 사업을 포함,액정표시장치(ＬＣＤ) 물류사업 진출을 통해 올해 3천억원의 매출을 달성할 계획이다. 임상택 기자 limst@hankyung.com