[도쿄=김형철특파원]일본 캐논사는 미국의 반도체제조설비업체인 SVG리소
그라피시스템사와 제휴,차세대 IC(집적회로)생산용 노광장치의 공동개발에
나선다고 일경산업신문이 16일 보도했다.
이 신문에 따르면 캐논사는 리소그라피측이 이미 개발한 노광장치를 우선
일본내에서 생산,판매하는 한편 이 장치를 개발하기 위해 3월중에 계약을
체결할 예정이다.
리소그라피시스템사는 미국이 일본반도체업계에 대항하기 위해 민관공동으
로 설립한 반도체개발회사로 세마테크계획의 기금을 지원받아 이 노광장치
를 개발했다.
따라서 캐논과 리소그라피간의 제휴는 이제까지 대립관계를 유지해 온 미
일반도체업계가 반도체제조설비분야에서 협력관계로 돌아서기 시작한 것으
로 풀이된다.