반도체용 웨이퍼나 금속재료 등에 열을 고르게 전달시키기 위해 사용되는
탄화규소계 반응.방열관을 보다 저렴하게 생산할 수 있는 새로운 제조공정
기술이 개발됐다.

한국과학기술연구원(KIST) 세라믹공정연구센터 송휴섭 박사팀은 이노쎄라
(대표 하조웅)와 공동으로 세라믹 부품제조공정에서 어려운 문제로 인식돼온
직경 10~15cm의 대형 반응.방열관을 최소의 가공만으로 실제 형상으로 제조
하는데 성공했다고 최근 발표했다.

연구팀이 개발한 새로운 제조공정기술은 가공 등 여러 단계의 복잡한 과정을
거치지 않고 성형과 열처리만으로 원하는 최종적인 실제 형상을 만들 수
있을뿐 아니라 연속공정으로 생산이 가능해 기존 제조공정보다 생산원가를
20% 정도 낮췄다.

연속제조공정기술은 기존 방법에 비해 공정이 크게 단축돼 생산설비를
갖추기 위한 초기투자비가 적게 들고 성형과정에서 제품의 균일도가 유지돼
품질및 생산성이 크게 향상될수 있는 장점이 있다.

반응.방열관이란 실리콘과 탄소가 결합돼 만들어진 세라믹재료의 일종인
탄화규소를 이용해 금속 또는 비철금속 열처리시 열을 고르게 전달하는
장치로 반도체공정에서 주로 이용된다.

현재 국내 반도체업계에서는 부품당 8백만~1천3백만원을 주고 전량 외국
에서 수입해 사용하고 있다.

< 김태완 기자 twkim@ked.co.kr >

( 한 국 경 제 신 문 1999년 12월 14일자 ).