[이달의 산업기술상] 기가급 반도체 양산용 감광제

2014년 1월 산업기술상 신기술 부문 우수상

주현상 금호석유화학 수석연구원

주현상 금호석유화학 수석연구원은 반도체 제조 과정 중 리소그래피 공정에서 널리 사용되는 ‘3X㎚급 ArF immersion용 포토레지스트’ 개발에 성공했다. ArF 포토레지스트는 초미세 회로를 형성할 수 있어 기가급 반도체 양산에 필수적인 재료다. ArF 포토레지스트는 그동안 전량 미국이나 일본에서 수입에 의존했다. 금호석유화학은 1997년 순수 노보넨-말레익 언하이드 공중합체 레진을 세계 최초로 도입, ArF 포토레지스트 국산화에 성공했다.

이번 과제에서 발명한 KUPR-AW22는 일본 등 경쟁사보다 높은 해상도와 넓은 공정 마진 등 여러 장점을 갖고 있다. 고객의 양산라인에 적용했을 때도 타사와 비교하면 높은 수율을 얻을 수 있었다. 금호석유화학은 이 기술 개발을 통해 연 120억원의 수입 대체효과를 가져올 것이라고 설명했다.

김우섭 기자 duter@hankyung.com