日엘피다 "45나노 D램 연내 양산"
이 반도체는 회로선폭이 기존 D램 중 가장 좁은 45나노미터(1 나노는 10억분의 1)로 첨단 미세화 기술을 활용해 개발됐다고 닛케이는 전했다. 엘피다는 반도체 시장의 회복세를 봐가며 이 D램 생산을 위해 단계적으로 300억~400억엔(약 3900억~5200억원)을 설비확충에 투자할 예정이다.
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