테스, 반도체용 HF 건식 식각장비 국산화

테스(대표 주숭일)는 26일 반도체용 HF 건식 식각장비를 국산화하는데 성공했다고 밝혔다.

테스가 개발에 성공한 HF 건식 식각장비는 그 동안 외산장비가 독점하던 장비로 국내에서는 테스가 최초로 개발에 성공했다. 특히 HF 건식 식 각장비는 산화막 식각(Etching) 기능 뿐 아니라 자연산화막 제거기능도 구현시킬 수 있어 공정이 미세화될수록 폭 넓게 대응 가능한 차세대 장비이다.

이동덕 테스 이사는 "HF 건식 식각장비(장비명 CUBIC300)는 자연산화막의 완전 제거가 가능하고 기존 장비로 어려운 콘택홀의 세정이 가능해, 접촉 저항의 저감 및 신뢰도를 향상시켜 반도체의 고집적화, 고성능화에 따른 신뢰도 및 수율향상에 크게 기여할 수 있는 장비"라고 설명했다 .

그는 "기존 원거리 플라즈마(Remote Plasma)를 이용한 식각장비보다 플라즈마데미지를 최소화 할 수 있고 자연산화막의 완전 제거가 가능하다"며 "과거 HF용액을 이용한 습식식각 장비에 비해 약액(세정액) 소모가 없어 친환경적이고, 세정 후 건조 단계가 불필요해 고객에게 생산성 향상 및 원가절감의 기회를 제공한다"고 강조했다.

HF 건식 식각장비는 공정이 미세화되면서 시장이 점점 커지고 있는 만큼 양산시에는 수입 대체 효과와 반도체장비 국산화율 제고효과가 클 것으로 회사측은 기대하고 있다.

테스는 지난 2002년 설립돼 반도체 전공정장비 및 태양전지 장비 제조업체로 세계 1,2위의 메모리소자업체를 주요고객으로 삼고 있으며, 자체 기술로 개발을 끝낸 태양전지 장비의 매출도 조만간 가시화될 전망이다.


한경닷컴 정형석 기자 chs8790@hankyung.com