동부하이텍과 에스이티아이가 110나노급 공정기술을 이용한 130만 화소 CMOS 이미지 센서칩을 개발했습니다. 동부하이텍는 1분기 중 양산에 들어갈 예정이며 500만 화소까지 다양한 이미지센서 제품을 지속 개발하는 등 에스이티아이(SETi)와의 협력관계를 더욱 강화할 계획이라고 밝혔습니다. 또 이번 개발에는 에스이티아이 R&D인력과 동부하이텍 공정설계 인력이 함께 참여했으며 초기단계부터 양산을 염두에 두고 반도체를 설계했다고 설명했습니다. 안태훈기자 than@wowtv.co.kr