세계 최대 규모를 자랑하는 국내 반도체 시장의 급성장과 함께 반도체 장비분야도 동반 상승하고 있다. 특히 반도체의 특성상 미세 먼지만 묻어도 작동오류가 생길 수 있으므로 반도체 세정분야의 중요성은 해가 갈수록 높아지고 있다. (주)아티스(대표 이재화 www.atiskorea.co.kr)는 반도체 생산라인의 모든 공정에 사용되는 핵심 장비 중 하나인 세정장비(Wet Station)를 생산하는 전문 업체로 국내 최고의 기술수준을 보유한 리딩 기업이다. 아티스가 세정장비업체로 환골탈태(換骨奪胎)한 역사는 짧으나， 그 뿌리는 깊다. 지난 1987년 설립된 한양기공을 모체로 하는 이 회사는 반도체 분야에 외길을 걸어온 전통과 기술력을 보유한 기업이다. 아티스는 우수한 기술력을 바탕으로 300mm 장비와 싱글 장비를 개발했으며， 올해에는 스핀세척 장비를 시장에 내놓을 예정이다. 반도체 분야에서 세정장비가 필수적으로 요구되는 이유는 반도체 소자 구조의 고집적화와 미세불순물， 유기불순물 때문이다. 이것들이 반도체 소자의 수율과 신뢰성에 악영향을 주는 것을 막기 위함이다. 반도체 세정이 반드시 필요한 이유는 wafer 표면의 이물질 제거와 오염방지를 통해 높은 수율을 올리는데 있다. 아티스가 주력으로 개발하는 제품은 대부분 국내최초로 개발되는 제품이어서 반도체 장비 전반의 기술력 제고는 물론 반도체산업 전반에 기여하고 있다. 이로 인해 아티스는 빠른 시간동안 급격한 성장을 거듭했다. 매출 만으로만 분석해보아도 처음 매출이 발생한 2004년 87억에서 지난해는 70억으로 약간 감소했지만， 올해는 배에 가까운 150억원을 예상하고 있다. 올 초 일본 세정장비분야 3대업체 중 하나인 SES사와의 협력관계를 구축하고 실질적 협력관계를 유지하기 위하여 10%의 주식투자를 받는다. 아티스는 SES사와의 협력관계를 바탕으로 올해에는 최저 500만불 수출목표를 정하고 동남아와 중국에 이미 2백만 불의 수출물량을 수주한 상태이며 점차 세계 시장으로 시야를 넓히고 있다.