본문 바로가기

    ADVERTISEMENT

    현대전자, 초미세 복합칩 기술 개발..회로선폭 0.21미크론m

    • 공유
    • 댓글
    • 클린뷰
    • 프린트
    현대전자는 0.21미크론m(1미크론m는 1백만분의 1m)의 회로선폭을 사용한
    초미세 복합칩 제조 기술을 세계 처음 개발했다고 28일 발표했다.

    이에따라 칩 하나에 최대 1백28메가 D램과 고성능 로직 트랜지스터를
    동시에 내장할 수 있어 정보통신기기의 고집적 고성능 수요를 충족시킬
    수 있게 됐다고 현대는 밝혔다.

    이번에 개발된 기술은 데이터를 전송할수있는 버스폭이 1천24비트로
    기존 기술(32비트)보다 30배 이상 커졌다.

    또 정보처리속도도 기존보다 50~60%정도 빠르다고 현대는 설명했다.

    현대는 기술을 개발하면서 기존 D램 공정을 그대로 사용할수 있도록
    설계해 추가 투자비부담도 없다고 덧붙였다.

    현대전자는 이번에 개발된 기술로 내년 상반기에 3차원 그래픽 컨트롤러,
    네트워크 컨트롤러, 디지털 TV 칩셋등 각종 통신기기용 복합칩을 대량
    생산할 계획이다.

    복합칩은 메모리과 로직(비메모리)을 하나로 결합한 칩으로 별도 설치할
    경우 발생하는 잡음, 입출력단수의 제한, 전력소모등을 줄이고 제품을
    소형경량화시킬 수 있는 장점이 있다.

    이에따라 앞으로 수요가 꾸준히 늘어 오는 2001년에는 시장이 약 80억달러
    에 달할 것으로 현대는 예상했다.

    현대전자는 지난 96년부터 복합칩 기술개발에 나섰다며 이번 기술 개발로
    차세대 복합칩 시장을 선점할 수 있는 기반을 마련했다고 설명했다.

    현대는 내년에 S램과 로직을 결합한 복합칩을 선보이고 2000년에는
    0.15미크론m 회로선폭을 적용한 시스템 온칩 기술도 개발할 것이라고 밝혔다.

    < 박주병 기자 jbpark@ >

    ( 한 국 경 제 신 문 1998년 9월 29일자 ).

    ADVERTISEMENT

    1. 1

      삼성중공업, 美 샌디에이고에 연구거점 마련

      삼성중공업이 미국에 첫 연구개발(R&D) 거점을 마련했다. 현지 대학 및 주요 조선소와 소통하는 한미 조선업 협력의 핵심 교두보를 구축하겠다는 구상이다.삼성중공업은 미국 샌디에이고주립대학교(SDSU)와 공동으로 첨단...

    2. 2

      포스코퓨처엠, 美실라와 손잡고 실리콘 음극재 공동개발

      포스코퓨처엠이 미국 배터리 소재 기업 실라와 손잡고 실리콘 음극재 공동 개발에 나선다. 기술력있는 미국 스타트업과 손잡고 차세대 음극재 시장을 선점하겠다는 목표다. 포스코퓨처엠은 지난 11일 서울 코엑스에서...

    3. 3

      세미파이브, 180억원 규모 차세대 AI NPU 개발 수주

      인공지능(AI) 맞춤형 반도체(ASIC) 설계 기업 세미파이브가 AI 반도체 개발 프로젝트를 잇따라 수주하며 사업 확대에 속도를 내고 있다.세미파이브는 AI 반도체 팹리스 기업과 협력해 삼성전자 4나노(SF4X) 공...

    ADVERTISEMENT

    ADVERTISEMENT