삼성, CNT 펠리클 검사 장비 개발
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"기존 EUV 방식보다 40% 저렴"
13일 업계에 따르면 삼성전자는 지난달 말 미국에서 열린 ‘SPIE 포토마스크 & EUV 노광 학회’에서 이런 내용을 발표했다. CNT 펠리클은 반도체 공정 중 웨이퍼 위에 빛으로 회로를 새기는 노광 작업에 활용된다. 펠리클은 빛이 회로를 새기기 위해 거쳐가야 하는 마스크를 보호하는 덮개다. CNT 펠리클은 그물망 다공성 구조로 제작됐다. 소재 사이사이의 여러 구멍으로 어떤 빛이라도 쉽게 투과할 수 있다. 기존 펠리클보다 유연해 깨질 위험이 덜하다.
EUV 마스크 검사에 필요했던 고가의 일본 레이저텍 검사장비에 의존하지 않아도 된다는 것도 장점으로 꼽힌다. 삼성 측은 “기존 EUV 마스크 검사 방식보다 비용을 40%가량 아낄 수 있다”고 설명했다. 삼성전자는 국내 반도체 소재 기업 에프에스티와 CNT 펠리클을 개발하고 있다. 이번 발표에서 KLA 장비에 들어간 펠리클 샘플 역시 에프에스티 제품인 것으로 추정된다. 업계 관계자는 “삼성전자의 이번 장비 개발은 CNT 펠리클 적용 의지가 강하다는 것으로 해석된다”고 분석했다.
강해령 기자 hr.kang@hankyung.com
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