삼성전자가 메모리반도체 연구개발 라인 시설투자에 3882억원, LCD 고해상도 라인 시설투자에 2294억원 등 총 6176억원을 투자한다고 공시했습니다. 메모리반도체 라인 투자 3882억원은 D램, 플래시 등의 개발과 마스크 생산량을 늘리기 위한 시설 증설에 사용됩니다. 또한 LCD라인 2294억원은 중소형 고해상도 제품 수요 증가에 대응하기 위한 시설에 투자됩니다. 조성진기자 sccho@wowtv.co.kr