미국 듀폰, KIST에 R&D센터 설립

미국 듀폰이 서울 홍릉 한국과학기술연구원(KIST) 안에 연구개발(R&D) 센터를 설립한다.

KIST는 김유승 원장과 존 호지슨 듀폰 수석 부회장이 연구원 내 제1회의실에서 '듀폰 한국기술연구소' 설립을 위한 협약(MOU)을 맺었다고 21일 밝혔다.

듀폰 한국기술연구소는 1단계로 디지털 디스플레이 신재료 분야를 2년 동안 집중 연구한 다음 2단계부터는 KIST와 공동 연구 과제를 선정,3년간 첨단 원천기술 개발에 나설 계획이다.

공동연구에 필요한 경비는 듀폰이 지원하며 KIST는 필요에 따라 매칭펀드 형태로 개발자금을 투자하게 된다.

호지슨 수석부회장은 "이번 R&D 연구소 설립을 계기로 듀폰이 가지고 있는 세계 최고 수준의 R&D와 산업화 능력을 한국의 고객에게 직접 전달할 수 있게 됐다"며 "듀폰의 고객을 포함해 대학 정부 업계와 긴밀하게 협력하게 될 것"이라고 밝혔다.

듀폰 한국기술연구소 설립은 과학기술부 산하 해외 우수연구기관 유치전담 기관인 국제과학기술협력재단(KICOS)의 지원으로 추진됐다.

듀폰은 지난 5월 KICOS와 한국내 R&D센터 설립에 관해 포괄적으로 합의했다.

장원락 기자 wrjang@hankyung.com