반도체 공정에서 배출되는 지구온난화물질인 과불화화합물(PFC)가스를 저온에서 분해할 수 있는 세계수준의 촉매식 처리기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다. 한국화학연구원 화학기술부 박용기.김희영박사팀은 환경부의 차세대 핵심환경기술 개발사업인 `반도체 공정 유해 폐가스 처리기술 개발' 과제를 ㈜에코프로(대표이동채), ㈜유니셈(대표 정진기)과 공동으로 수행, 반도체 공정에서 배출되는 PFC가스를 2차 환경오염물질 발생없이 효과적으로 제거할 수 있는 촉매식 처리기술을 개발했다고 26일 발표했다. PFC 가스는 난분해성으로 열분해를 위해 섭씨 1천200도 이상의 고온이 필요했으나 이번에 개발된 촉매식 PFC 세정기는 섭씨 800도 이하의 저온에서도 99% 이상의분해효율을 보인 것은 물론 질소산화물, 오존 등의 2차 오염물이 전혀 발생하지 않았다. 또 저렴하고 내구성이 뛰어난 촉매 개발로 인해 세정기의 수명을 향상시킴과 동시에 가격을 크게 낮출 수 있기 때문에 국제시장에서의 경쟁력이 기대된다. 촉매식 PFC 세정기는 현재 세계에서 일본의 히타치사만이 기술을 보유하고 있는상태로 한국화학연구원이 개발한 세정기는 기술의 원리는 비슷하지만 촉매에서 일본제품보다 품질이 앞선다는 것이 연구진의 설명이다. 한국화학연구원은 이 기술의 핵심인 촉매는 이미 세계적인 화학전문지인 캠콤(CHEM COMM)에 발표돼 인정을 받은 상태이며 국내 및 국제특허를 출원중에 있다고 밝혔다. 반도체공정에서 나오는 PFC가스는 배출량이 해마다 증가해 앞으로 4~5년 후면이산화탄소 배출량의 1%에 이를 것으로 전망되는 제2의 지구온난화물질로 한국,미국,유럽,대만의 반도체 산업협회를 중심으로 이뤄진 세계반도체협의회(WSC)가 문제의중요성을 인식, 지난 99년에 PFC가스 배출량의 자발적인 감축에 합의한 바 있다. (서울=연합뉴스) 류일형기자 ryu625@yna.co.kr