韓-日특허심사 협력...선행기술조사작업 공동으로

특허청은 일본과 특허심사에서 서로 협력키로 하고 한.일에 공통 출원되는 특허에 대해 공동으로 선행기술조사사업을 벌이기로 했다고 14일 밝혔다.

한국과 일본 특허청은 우선 상반기중 전기.전자 분야 가운데 디스플레이패널 관련 기술에 대해 선행기술조사를 시범 실시한다.

하반기엔 화학 분야를 추가하며 내년부터 조사 분야와 물량을 단계적으로 늘려갈 예정이다.

특허청 관계자는 "1998년 한국인의 일본 출원은 3천여건,일본인의 한국 출원은 1만여건에 달했다"며 "상호 협력을 통해 심사 수준을 높이고 처리기간을 크게 줄일 수 있게 됐다"고 말했다.