현행 출원공고일로부터 15년인 특허권을 20년으로 연장하는 한편 특허조기
공개제도입등을 골자로한 특허법개정안이 확정됐다.

13일 특허청에 따르면 우루과이라운드(UR)지적재산권협정및 세계무역기구
(W TO)의 출범에 맞춰 국내특허법을 개정하는 작업이 최근 마무리됐다.

개정안에 따르면 출원공고일로부터 15년으로 규정되어있는 특허권의 존속
기간이 출원일로부터 20년으로 늘어난다.

이와 함께 현재 출원일로부터 공개되기전 1년6개월간은 법적보호를 받을
수없었던 것을 앞으로는 1년6개월전이라도 조기에 공개하면 가보호의
권리를 주도록 하고있다.

조기공개제는 현재 출원으로부터 공개전까지의 1년6개월기간사이에 모방
출원이 있더라도 공개이전에는 권리보호가 안돼 피해를 입는 경우가 빈발,
업계등에서 도입을 요구해왔던 것이다.

또 그간 특허를 받을 수 없었던 "원자핵변환에 의해 제조될수 있는
물질"에 대해서도 앞으로는 특허를 줄 수 있도록 했다.

이밖에 특허발명의 실시행위에 생산,사용,양도,대여,수입,전시이외에
양도청약도 포함시켜 권리자의 보호를 강화키로했다.

한편 이날 대한상의에서 열린 "특허제도의 세계화를 위한 공청회"에서
특허법의 실질적 수혜자인 대기업,중소기업,학계,연구소,변리사,개인
발명가 등은 특허권강화는 바람직하나 이 혜택이 주로 기술우위인
선진외국에 돌아갈수 있으므로 이에 대한 제도적 보완책이 필요하다고
의견을 모았다.

이번에 확정된 개정안이 내년중 국회를 통과하면 경제협력개발기구
(OECD)가입여부에 따라 선진국 혹은 개도국기준을 적용받아 1년후,혹은
5년후부터 시행된다.

(한국경제신문 1994년 12월 14일자).