삼성전자가 올해보다 30.4% 증가한 3조원을 내년에 신규투자한다.

삼성전자는 17일 시설투자에 2조3천억원,연구개발에 7천억원등 총3조원을
투자키로 하는 내용의 내년투자계획을 확정했다.

이는 올해보다 각각 35%와 16%씩 늘어난 액수이나 국제프로젝트참여나 지분
참여등을 통한 외국기업과의 전략적 제휴등을 확대한다는 방침이어서 실제
투자액은 약4조원규모에달할 것으로 보인다.

삼성전자는 16메가D램 생산라인증설및 설비도입에 1조원을 투자할 계획
이다.

내년 양산예정인TFT- LCD(초박막액정표시소자)생산체제구축과 기존
가전제품 생산라인증설에 5천억원을 투입키로 했다.

중국 소주등 해외복합화단지 건설에 3천억원,공장자동화등 합리화투자에
2천억원을 투자키로 했다.

공장의 환경오염물질방출을 막기위한 환경설비투자에도 3천억원을 투입할
방침이다.

주요연구개발투자로는 64메가D램 상용제품,비메모리반도체개발,LCD
양산기술개발에 3천억원을 투입키로 했다.

첨단가전제품및 AV기기개발에 2천억원,멀티미디어등 뉴미디어기기개발에
2천억원을 투자할 계획이다.

삼성전자관계자는 이번에 확정한 투자계획은 연속성을 갖는 부분에 대한
기본투자액이라며 "정보통신및 멀티미디어분야의 국제프로젝트참여나
지분참여를 통한 해외기업과의 전략적 제휴 확대등을 적극 추진할 방침
이어서 인력교육비등을 포함하면 실제 투자규모는 이보다 훨씬 많은
4조원에 달할 것"이라고 밝혔다.

(한국경제신문 1994년 11월 18일자).