특허 심사 만족도 68.8점으로 소폭 하락…상표·디자인은 상승

특허 심사에 대한 출원인들의 만족도가 소폭 하락했다.

특허청이 지난해 6∼12월 특허와 상표, 디자인 등의 다출원인과 대리인 712명을 대상으로 시행한 심사 품질 설문조사에 따르면 전반적인 심사 품질에 대한 만족도 질문에서 특허 분야는 68.8점으로 2020년 69.7점에 비해 하락했다.

상표·디자인 분야 만족도는 72.9점으로 2020년 69.1점에서 다소 상승했다.

한정된 여건이라면 특허심사의 속도와 품질 중 어떤 것에 더 중점을 둬야 한다고 생각하느냐는 질문에는 품질을 선택한 응답자가 37%로, 속도를 꼽은 26%보다 11%포인트 앞섰다.

품질과 속도 모두 동일하다는 응답자도 37%였다.

해외 출원 경험이 있는 응답자 중 한국 특허청의 심사 서비스가 타국에 비해 우수하다고 응답한 비율이 87.6%로 2020년의 77.3%보다 10.3%포인트 상승했다.

한국 특허청의 심사 서비스가 더 우수하다고 생각한 이유로는 빠른 심사 속도, 충실한 선행기술 조사, 이해하기 쉽게 작성된 통지서 등을 꼽았다.

이호조 특허청 심사품질담당관은 "심사 품질 교육을 강화하고 하나의 출원을 여러 심사관이 함께 검토하는 협의 심사를 확대하는 등 품질을 중시하는 정책을 지속해서 추진할 것"이라고 말했다.

/연합뉴스