바이든, 인텔 반도체 투자에 "역사적"…삼성도 거론

조 바이든 미국 대통령은 21일(현지시간) 인텔이 오하이오주에 200억 달러, 우리돈 약 24조원을 들여 반도체 제조시설을 짓기로 한 데 대해 "역사적 투자"라고 치켜세웠다.

바이든 대통령은 이날 백악관에서 연설을 통해 "진정으로 역사적인 투자"라며 이같이 말했다. 그는 "미국 역사상 반도체 제조 분야 최대 규모 투자 중 하나"라며 "7,000개의 건설 일자리와 3,000개의 일자리가 창출될 것"이라고 평가했다.

삼성의 대미 투자도 함께 언급했다. 바이든 대통령은 "작년에는 삼성과 마이크론 같은 대형 반도체 회사들이 800억 달러를 들여 미국에 신규 시설을 짓겠다고 약속했다"고 말했다.

그는 "연구개발 분야에서 미국은 1위였는데 지금은 9위이고 중국은 30년 전에 8위였는데 지금 2위"라면서 "우리는 반도체 설계와 연구의 리더인데도 겨우 10%를 생산하고 있다. 75%는 동아시아에서, 첨단 반도체칩의 90%는 대만에서 생산되고 있다"고 탄식했다. 이어 "중국은 글로벌 시장을 장악하기 위해 할 수 있는 모든 것을 하고 있다"며 중국과의 경쟁 대처와 미국 내 투자 확대의 중요성을 역설했다.

바이든 대통령은 미국 내 반도체 생산 확대에 520억 달러를 지원토록 하는 '미국혁신경쟁법안'의 통과를 촉구하며 "우리의 경제적 경쟁력과 국가안보를 위해 그렇게 하자"고 호소했다.

한편 백악관은 이날 바이든 대통령의 연설에 앞서 미국내 반도체칩 제조역량 확대를 자찬하는 보도자료를 배포했다. 이 자료에는 삼성과 SK하이닉스의 대미투자 사례도 거론했다.

백악관은 "삼성이 텍사스주에 170억 달러 투자 계획을 발표했다"면서 이는 "지난해 5월 문재인 대통령과 바이든 대통령의 한미 정상회담을 포함해 바이든 행정부가 기울인 지속적 노력의 결과:라고 의미를 부여했다.

SK그룹이 미국에 새로운 연구·개발(R&D) 센터 투자 계획을 밝힌 것도 사례에 포함됐다. SK하이닉스는 지난해 10억 달러를 들여 실리콘밸리에 신성장 분야 혁신을 위한 대규모 R&D 센터를 설립한다는 계획을 발표한 바 있다.


이지효기자 jhlee@wowtv.co.kr