에스티아이, SK하이닉스에 '플럭스 리플로우' 장비 공급…주가는 '강세'
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SK하이닉스와 장비 공동 개발에 성공
반도체·디스플레이 장비업체 에스티아이가 강세다. SK하이닉스와 300mm 웨이퍼(Wafer) 전용 플럭스 리플로우(Flux Reflow) 장비 공동 개발에 성공했다고 밝힌 것이 주가를 끌어올리고 있다.
22일 오후 1시32분 현재 에스티아이는 코스닥시장에서 200원(1.1%) 오른 1만8350원에 거래되고 있따. 장중 1만9250원까지 치솟기도 했다. 에스티아이는 새롭게 개발에 성공한 장비를 SK하이닉스에 신규 공급하기로 했다.
플럭스(Flux)는 솔더(Solder) 표면의 산화물 제거와 기판의 접착력을 높여주는 역할을 하지만, 공정 중에 챔버(Chamber) 내부를 오염시킬 수 있는 다량의 소스(Source)를 발생시키는 단점을 갖고 있다.
에스티아이가 이번에 공급 계약한 플럭스 리플로우 장비는 특화된 설계 노하우와 차별화 기술을 통해 플러스가 발생시키는 오염 현상을 극소화 하고 챔버 내부 상태를 최적으로 유지해 공정 진행에 있어 높은 성능을 발휘한다.
에스티아이 관계자는 "이번 장비 수주는 반도체 공정 장비에 대한 개발 및 양산화에 큰 의미가 있으며, 앞으로도 지속적인 연구개발에 적극적인 대응과 최선의 노력을 다해 나아갈 것"이라고 말했다.
류은혁 한경닷컴 기자 ehryu@hankyung.com
22일 오후 1시32분 현재 에스티아이는 코스닥시장에서 200원(1.1%) 오른 1만8350원에 거래되고 있따. 장중 1만9250원까지 치솟기도 했다. 에스티아이는 새롭게 개발에 성공한 장비를 SK하이닉스에 신규 공급하기로 했다.
플럭스(Flux)는 솔더(Solder) 표면의 산화물 제거와 기판의 접착력을 높여주는 역할을 하지만, 공정 중에 챔버(Chamber) 내부를 오염시킬 수 있는 다량의 소스(Source)를 발생시키는 단점을 갖고 있다.
에스티아이가 이번에 공급 계약한 플럭스 리플로우 장비는 특화된 설계 노하우와 차별화 기술을 통해 플러스가 발생시키는 오염 현상을 극소화 하고 챔버 내부 상태를 최적으로 유지해 공정 진행에 있어 높은 성능을 발휘한다.
에스티아이 관계자는 "이번 장비 수주는 반도체 공정 장비에 대한 개발 및 양산화에 큰 의미가 있으며, 앞으로도 지속적인 연구개발에 적극적인 대응과 최선의 노력을 다해 나아갈 것"이라고 말했다.
류은혁 한경닷컴 기자 ehryu@hankyung.com