삼성전자가 중국 시안에 짓는 반도체 생산라인에 5억달러(약 5400억원)를 추가로 투자하고 종합 연구개발(R&D)센터도 마련한다. 시안 반도체 공장 총 투자액은 이로써 75억달러(약 8조1200억원)로 늘었다.

삼성전자는 12일 산시성 시안에서 권오현 삼성전자 부회장과 자오정융 산시성 당서기 등이 참석한 가운데 산시성과 이 같은 투자협약을 체결했다.

삼성전자는 시안 반도체 생산라인 착공 1주년을 맞아 이날 5억달러를 추가로 투입해 반도체 후공정 공장을 짓기로 했다. 지난해부터 시안에 건설 중인 10나노급 낸드플래시 생산라인에서 만든 웨이퍼(반도체를 만드는 얇은 판)를 자르고 조립하고 검사하는 곳이다.

삼성전자는 연말까지 낸드 생산라인을 완공해 내년 상반기 중 양산에 들어간다. 후공정 라인은 내년 초 착공해 2015년부터 본격 가동할 예정이다.

삼성전자는 또 이날 융합연구소인 ‘시안 연구개발센터’를 열었다. 이 연구센터에서는 반도체뿐만 아니라 스마트폰과 TV, 생활가전, 소프트웨어 등을 종합적으로 연구할 계획이다.

정인설 기자/베이징=김태완 특파원 surisuri@hankyung.com