테스는 11일 기판 처리 장치 관련 특허를 취득했다고 공시했다.

회사 측은 "이번 기술을 활용하면 반응 챔버 내부에서 공정 가스를 신속하게 배기시켜 공정의 효율성이 향상된다"고 밝혔다.

한경닷컴 정인지 기자 injee@hankyung.com