제20회 다산기술상 - 기술상 : 대기업 부문 이병석 하이닉스반도체 상무
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20나노 낸드플래시 최단기간 개발
이병석 하이닉스반도체 상무(50 · 사진)는 20나노급 낸드플래시메모리를 최단 기간에 개발해 시장 경쟁력을 확보하고 수익성 확대에 크게 기여한 점을 인정받아 대기업 부문 기술상을 받았다.
이 상무가 속한 플래시공정팀은 제품 개발 초기부터 단위 공정 최적화를 위한 공정 단순화와 함께 기존 장비 활용을 극대화하는 전략을 썼다. 지속적인 실험을 통해 반도체 도핑 또는 식각 과정에서 효율을 높여 공정 기간과 비용을 크게 줄였다. 이를 통해 기술 개발기간이 6개월가량 단축됐다. 이 회사의 20나노급 낸드플래시는 2011년 2월 글로벌 정보기술(IT) 회사로부터 정식 인증을 받으면서 도약했다. 낸드플래시는 스마트폰 태블릿PC 디지털카메라 등에 쓰이며 대용량화에 유리한 비휘발성 메모리다.
이 상무는 영남대 화학공학과를 졸업하고 동 대학원에서 석사를 마친 후 1988년 현대전자에 입사해 23년간 반도체 한 우물을 팠다. 2002년부터는 낸드플래시 개발에 본격적으로 참여했다. 120나노→90나노→70나노→48나노→26나노급으로 이어지는 하이닉스반도체 공정 혁신의 산 증인이다. 현재는 15나노급 공정개발을 주도하고 있다.
하이닉스는 8월 기준 낸드플래시 매출의 50%에 달하는 20나노급 제품 비중을 연말까지 70%로 확대하는 한편 차세대 10나노급 제품 개발에도 속도를 낼 계획이다.
이 상무가 속한 플래시공정팀은 제품 개발 초기부터 단위 공정 최적화를 위한 공정 단순화와 함께 기존 장비 활용을 극대화하는 전략을 썼다. 지속적인 실험을 통해 반도체 도핑 또는 식각 과정에서 효율을 높여 공정 기간과 비용을 크게 줄였다. 이를 통해 기술 개발기간이 6개월가량 단축됐다. 이 회사의 20나노급 낸드플래시는 2011년 2월 글로벌 정보기술(IT) 회사로부터 정식 인증을 받으면서 도약했다. 낸드플래시는 스마트폰 태블릿PC 디지털카메라 등에 쓰이며 대용량화에 유리한 비휘발성 메모리다.
이 상무는 영남대 화학공학과를 졸업하고 동 대학원에서 석사를 마친 후 1988년 현대전자에 입사해 23년간 반도체 한 우물을 팠다. 2002년부터는 낸드플래시 개발에 본격적으로 참여했다. 120나노→90나노→70나노→48나노→26나노급으로 이어지는 하이닉스반도체 공정 혁신의 산 증인이다. 현재는 15나노급 공정개발을 주도하고 있다.
하이닉스는 8월 기준 낸드플래시 매출의 50%에 달하는 20나노급 제품 비중을 연말까지 70%로 확대하는 한편 차세대 10나노급 제품 개발에도 속도를 낼 계획이다.