동부일렉트로닉스(옛 동부아남반도체)가 세계 파운드리 업체로는 처음으로 '0.13미크론급 노어플래시 공정' 개발에 성공했다.

동부일렉트로닉스는 최근 세계적인 플래시메모리 설계회사인 대만 이온 실리콘 솔루션(Eon Silicon Solution)과 공동으로 극미세 기술인 0.13미크론급 노어플래시 제조공정을 개발했다고 8일 밝혔다.

노어플래시는 데이터 읽기속도가 빨라 휴대폰 등 소형기기나 디지털 가전에 많이 쓰이는 반도체로,동부일렉트로닉스가 이번에 개발한 공정은 32,64,128메가비트 노어플래시를 만들 수 있는 기술이다.

특히 신공정은 기존의 0.18미크론급 공정에 비해 칩 사이즈를 더 작게 만들 수 있어 생산원가를 대폭 낮출 수 있다.

회사 관계자는 "이번 공정은 세계 최대의 노어플래시 생산기업인 인텔의 0.13미크론급 제품보다 더 작은 크기의 칩을 만들 수 있다"며 "특히 대만 TSMC,UMC 등 파운드리 선발업체들도 아직 개발하지 못한 공정이기 때문에 첨단 휴대폰 및 LCD TV 시장을 선점할 수 있을 것"이라고 설명했다.

이태명 기자 chihiro@hankyung.com