동부일렉트로닉스, 0.13미크론급 노어플래시 공정 개발
동부일렉트로닉스는 최근 세계적인 플래시메모리 설계회사인 대만 이온 실리콘 솔루션(Eon Silicon Solution)과 공동으로 극미세 기술인 0.13미크론급 노어플래시 제조공정을 개발했다고 8일 밝혔다.
노어플래시는 데이터 읽기속도가 빨라 휴대폰 등 소형기기나 디지털 가전에 많이 쓰이는 반도체로,동부일렉트로닉스가 이번에 개발한 공정은 32,64,128메가비트 노어플래시를 만들 수 있는 기술이다.
특히 신공정은 기존의 0.18미크론급 공정에 비해 칩 사이즈를 더 작게 만들 수 있어 생산원가를 대폭 낮출 수 있다.
회사 관계자는 "이번 공정은 세계 최대의 노어플래시 생산기업인 인텔의 0.13미크론급 제품보다 더 작은 크기의 칩을 만들 수 있다"며 "특히 대만 TSMC,UMC 등 파운드리 선발업체들도 아직 개발하지 못한 공정이기 때문에 첨단 휴대폰 및 LCD TV 시장을 선점할 수 있을 것"이라고 설명했다.
이태명 기자 chihiro@hankyung.com
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