삼성전자가 낸드플래시에 이어 퓨전메모리 반도체인 '원낸드(OneNAND)'도 최첨단 기술인 70나노 공정으로 양산한다. 삼성전자는 이달부터 경기도 기흥의 메모리 라인에서 70나노 공정을 도입한 1기가비트(Gb) 원낸드를 본격 양산한다고 4일 밝혔다. '70나노 공정'은 반도체 회로선 폭을 대폭 줄여 생산성과 집적도를 높일 수 있는 기술이다. 이 공정을 적용할 경우 90나노 공정에 비해 반도체의 데이터 처리 속도를 60%가량 빠르게 할 수 있고 생산성도 70% 높일 수 있다. 삼성전자는 그동안 128메가비트부터 4기가비트까지의 원낸드에는 90나노 공정을 적용했으며,70나노 공정은 경기도 기흥의 낸드플래시 라인(14라인)에만 적용해왔다. 원낸드는 낸드플래시와 노어플래시의 장점을 모두 갖춘 제품으로 고용량의 데이터 저장과 고속의 데이터 처리가 가능해 디지털카메라 셋톱박스 휴대폰 등에 많이 쓰여왔다. 특히 내년 초 새로운 PC 운영시스템인 '윈도 비스타' 출시에 맞춰 PC에도 사용될 예정이다. 이에 따라 원낸드 시장 규모는 2008년 10억달러,2010년 15억달러로 급성장할 것으로 기대되고 있다. 이태명 기자 chihiro@hankyung.com