반도체 공정에서 배출되는 주요 환경오염 물질인 불화화합물(PFC) 가스를 저온에서 분해할 수 있는 기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다. 한국화학연구원 화학기술부 박용기·김희영 박사팀은 '반도체 공정 유해 폐가스 처리기술 개발' 과제를 2001년부터 수행,반도체 공정에서 배출되는 PFC 가스를 2차 환경 오염물질의 발생 없이 효과적으로 제거할 수 있는 촉매식 처리기술과 장비를 개발했다고 31일 밝혔다. PFC 가스는 이산화탄소와 함께 지구 온난화를 일으키는 주요 물질로 분류돼 전세계적으로 감축 대상이 되고 있다. 기존의 연소식 PFC 처리장비는 섭씨 1천2백도 이상의 고온을 필요로 했으나 이번에 개발된 장비는 섭씨 8백도 이하의 온도에서 99% 이상의 분해 효율을 보였다는 게 연구팀의 설명이다. 특히 질소산화물이나 오존 등 2차 오염물도 전혀 발생시키지 않았다고 연구팀은 강조했다. 박용기 박사는 "촉매식 PFC 세정 장비는 현재 세계에서 일본의 히타치사만이 기술을 보유하고 있다"며 "이번에 개발한 세정기는 일본 제품과 기술의 원리는 비슷하지만 품질에서는 한발 앞서 있다"고 말했다. 그는 이어 "6개월 이내에 상용화가 되면 연간 3백억원 규모의 수입대체 및 수출 효과가 기대된다"고 덧붙였다. 장원락 기자 wrjang@hankyung.com