삼성전자는 0.09미크론(1백만분의 1m) 이하의 초미세 회로를 형성할 수 있는 아르곤 플로라이드(ArF)용 감광제를 업계 최초로 상용화하는데 성공,기가급 반도체 양산을 위한 원천 기술을 보유하게 됐다고 30일 밝혔다.

감광제(Photo Resist)는 반도체 제조공정상 빛의 반응에 의해 설계된 회로를 웨이퍼 위에 형성할 때 사용되는 고분자 재료다.

이익원 기자 iklee@hankyung.com