삼성전자, 아르곤 플로라이드용 감광제 첫 상용화 성공
감광제(Photo Resist)는 반도체 제조공정상 빛의 반응에 의해 설계된 회로를 웨이퍼 위에 형성할 때 사용되는 고분자 재료다.
이익원 기자 iklee@hankyung.com
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