기술을 개발했다고 1일 발표했다.
현대가 개발한 기술은 반도체 회로를 설계하는 노광장비의 렌즈구경을
확대시켜 해상도를 높이는 기술이다.
이 회사는 이와관련,0.25마이크론(1마이크론은 1백만분의 1m)의 회로
선폭을 그릴 수 있는 일종의 감광재인 포토레지스트로 개발했다고 덧붙였다.
현대는 이번 기술개발로 회로선폭 0.25 급의 반도체 설계에 필요한
고가의 KrF 엑시머 노광장비를 구입하지 않아도 돼 약 6천만달러의 장비
구입비절감효과를 거두게 됐다고 설명했다.
현대전자는 최근 이 기술을 경기도 이천 공장의 16메가D램과 64메가D램
공정에 적용한 결과 우수한 성과를 얻었다고 덧붙였다.
박주병 기자 jbpark@
( 한 국 경 제 신 문 1998년 9월 2일자 ).