삼성전자가 캐나다 노던텔레콤사와 일본 산요사로부터 반도체 건식식각
공정에대해 특허침해로 제소당해 대책마련에 나서고 있다.

17일 업계에 따르면 노던텔레콤사와 산요사는 공동보유하고 있는 건식식
각공정기술을 삼성전자가 특허침해했다며 이회사의 주력수출시장인 미국
댈라스주법원에 지난 3일 제소했다.

이회사들은 제소장에서 삼성전자가 건식식각기술중 RIE(리액티브이온 에
칭)방식에 화학적 반응을 가미해 식각의 효율성을 높이는 특허기술을 침해
했다고 주장,1천8백만달러의 피해보상을 요구했다.
삼성전자는 이에대해 노던텔레콤사가이 주장하는 기술과는 다른 방식으로
식각공법을 사용하고 있는데다 이미 대응특허도 확보하고 있어 법적인 대
응을 할 방침이라고 밝혔다.