반도체와 디스플레이 등에 쓰이는 극미세 나노 구조물을 기존보다 10배 이상 빠른 속도로 원하는 위치에 정확하게 제작할 수 있는 초고속 리소그래피(석판인쇄)공정 기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다. 이해원 한양대 교수팀은 광기술 대신 원자힘 현미경(AFM)을 이용해 나노 구조물을 경제적이면서 효과적으로 제작할 수 있는 기술 개발에 성공했다고 28일 밝혔다. 리소그래피 처리 속도가 빨라지면 나노 구조물 형성이 쉽지 않고 에너지 증가로 인해 기판에 손상을 줄 수 있는 게 단점이었다. 그러나 이 기술은 수천만배의 배율로 원자 구조까지 관찰할 수 있는 원자 현미경의 탐침을 활용해 시료의 표면을 산화시켜 기판에 손상을 주지 않고 원하는 위치에 구조물을 제작할 수 있는 기법이라고 이 교수는 설명했다. 이 교수는 "기존의 AFM 리소그래피 기술은 속도가 매우 느려 상용화에 한계가 있었지만 이번에 개발한 기술은 초고속 생성이 가능한 만큼 본격적인 상용화가 가능하다"고 밝혔다. AFM 리소그래피 시장은 지난해 전 세계적으로 2000억원에 달했으며,2010년에는 3000억원으로 증가할 것으로 전망된다. 오춘호 기자 ohchoon@hankyung.com