인텔과 ST마이크로일렉트로닉스가 공동 개발한 90나노 공정 512Mb 노어플래시를 출시했습니다. 두 회사는 내년 하반기에 65나노 공정의 1Gb 노어플래시를 공동으로 개발하고, 2008년에는 45나노 제품도 선보일 계획이라고 밝혔습니다. 채주연기자 jychae@wowtv.co.kr