50나노급 금형 제작기술 개발 .. 기계硏 이응숙 박사팀

차세대 디스플레이 공정기술로 각광을 받고 있는 선폭 50나노미터(㎚)급 임프린트 리소그래피(석판인쇄) 공정 기술과 장비가 국내 연구진에 의해 개발됐다.

한국기계연구원 이응숙 박사팀은 광기술 대신 자외선을 활용해 선폭 50㎚급의 나노 금형을 값싸게 제작할 수 있는 자외선 나노 임프린트 리소그래피 공정과 장비를 개발했다고 15일 밝혔다.

'나노임프린트 리소그래피 기술'은 반도체 및 디스플레이 등에 쓰이는 나노 구조물을 제작할 수 있는 첨단기술이다. 이 박사팀은 이번 기술을 사용하면 기존 나노 임프린트 공정에 비해 공정속도를 10배 이상 올릴 수 있으며 장비 단가도 절반이상 낮출 수 있을 것으로 기대된다고 밝혔다.

오춘호 기자 ohchoon@hankyung.com