전지기술의 고성능화, 경량화, 소형화 등의 기술적인 진보에 따라 개인용 휴대기기 관련 부품 및 소재의 시장규모는 급속한 증가 추세를 나타내고 있다. 2차전지에 사용되는 각종 부품？소재의 수요 역시 급격하게 증대될 것이라는 전망이 지배적이다. 특히 작년도에는 심각한 공급부족현상을 나타내기도 하였던 2차전지의 필수소재인 격리막(세퍼레이터)을 순수 국내기술을 통해 생산을 가능케 한 (주)씨에스텍(대표 반정원 cspore.com)이 업계에 비상한 관심을 모으고 있다. 격리막의 국내생산이 전무한 현실에 착안하여 기존 사업체 내에 신기술 사업부를 구성하여 끊임없는 R&D를 통해 이끌어낸 결과다. (주)씨에스텍은 순수 국내기술을 기반으로 국내원료를 사용하여 2년 동안의 개발기간을 통해 파일롯 스케일의 2차전지용 격리막 시제품을 개발 완료했다. 최근에 파일롯 스케일의 시제품을 한국전기연구원의 전지성능시험을 통해 기술수준을 확인받았으며, 현재 국내 및 중국의 전지조립 생산업체들을 통해 실제 양산공정에의 현장적응성을 검증받고 있는 상태이다. (주)씨에스텍의 독자적인 기술력은 국내기술이란 의미에 국한된 것만이 아니다. 기존 전지업계에서 사용되고 있는 일본 및 미국제품의 성능에 버금가는 우수한 품질을 확보하였다는 기술적 평가에 큰 의미를 부여할 수 있다. 리튬 2차전지용 격리막의 제조방법으로 건식법(dry process) 및 습식법(wet process)이 있다. 건식법은 물리적 연신공정에 의해 기공을 형성하기 때문에 용매 및 추출제가 필요 없어 경제적이고, 최종제품에 잔류물질이 존재하지 않는 환경친화적인 공법이다. (주)씨에스텍의 2차전지용 격리막은 기존 방식과는 다른 독창적인 건식법에 의해 제조되어 고다공성 및 균일한 기공구조, 고강도, 화학적 안정성, 얇은 두께, 그리고 충방전시 전지 내부단락 및 발열에 의한 기공차폐 기능을 부여하여 전지의 안정성을 확보 할 수 있다. 뿐만 아니라 (주)씨에스텍은 기존의 건식법에 의한 격리막의 단점으로 지적되고 있는 낮은 다공성에 따른 문제점을 자사의 기술력을 바탕으로 획기적으로 개선하여 습식법에 의한 제품보다 우수한 다공성을 확보할 수 있어 전지의 용량 및 충방전 특성을 개선시킬 수 있다. 현재 원주 태장농공단지에 위치한 공장 및 연구소에 파이롯 및 1차 양산설비를 구축, 가동하여 완제품 시생산의 마무리 단계에 도달하여 최종 시제품의 양산 공정조건 확보에 주력하고 있다. 독창적인 기술력을 성장엔진으로 새롭게 무장한 (주)씨에스텍의 비약적인 발전이 기대된다.