"中 추격, 위협적이지 않아"
기술 앞세워 점유율 확대
이미지센서 초격차도 속도
5년내 6억 화소 제품 출시
삼성전자는 마이크론의 176단 3D 낸드 개발과 관련해선 “같은 단수의 반도체를 만들더라도 높이가 낮아야 수익성을 높일 수 있다”며 자신감을 보였다. 삼성전자는 낸드 한 덩어리(stack)에 더 많은 단(layer)을 넣을 수 있어 타사 제품보다 높이가 15% 이상 낮다는 점도 강조했다.
중국 메모리반도체 업체에 대해선 “위협적이지 않다”고 평가절하했다. 한진만 삼성전자 메모리사업부 전무는 “중국 업체들은 단기간 내 양산(램프업)이 불가능할 것”이라며 “반도체산업의 기술 장벽도 갈수록 높아지고 있다”고 설명했다.
극자외선(EUV) 노광장비를 적용한 D램 생산에 대한 구체적인 로드맵도 나왔다. 삼성전자는 “EUV 장비를 통해 14나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m) D램을 양산 중”이라며 “2030년까지 10㎚ 이하 D램을 생산할 것”이라고 밝혔다.
시스템반도체 사업의 주력 제품인 이미지센서와 관련해 박용인 삼성전자 센서사업팀장(부사장)은 “2025년 이전에 6억 화소 제품이 나올 것”이라고 언급해 ‘초격차’ 전략에 속도를 내겠다는 의지를 밝혔다. 삼성전자는 지난해 1억800만 화소 제품을 세계 최초로 개발한 바 있다.
황정수/박재원 기자 hjs@hankyung.com