중소기업 부문 기술상 수상자인 장호승 아이피에스 대표(53)는 지난 10년간 반도체 공정 분야 장비개발에만 몰두해 온 '외골수'다.

그는 삼성전자와 공동으로 1998년 원자층 증착(ALD) 방식의 반도체 공정장비를 개발해 세계 최초로 메모리소자 제조공정에 적용했다.

이 장비는 삼성전자뿐만 아니라 미국 독일 일본 대만 등 4개국 8개 주요 반도체 기업에 공급되고 있다.

"처음 개발에 나설 당시 회사의 기술수준은 형편없었습니다.

뭔가 새로운 것을 해보자는 의지 하나로 세계 최초라는 성과를 낸 것이지요."

ALD 방식은 반도체에 막을 씌우는 박막 증착기술의 하나.

기존에는 가스의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼 표면에 증착시키는 화학기상증착(CVD) 공정이 주로 사용됐다.

그러나 반도체소자의 임계크기가 나노미터 이하로 작아지면서 CVD 방식은 점차 한계를 드러내기 시작했다.

이에 따라 불순물을 최대한 억제하면서 균일한 두께로 박막을 형성할 수 있는 ALD 방식의 필요성이 대두됐다.

ALD 방식은 주로 디스플레이 분야에 사용됐으나 장 대표는 이를 반도체 메모리소자에 적용시킨 것.현재 국내에서는 110nm이하의 모든 소자 제조에 ALD 방식 공정이 사용되고 있다.

장 대표는 이 기술을 개발한 공로로 2004년에는 반도체 기술 경진대회 대상을,지난 6월에는 대한민국 코스닥대상에서 최우수테크노경영상을 받았다.