삼성전자, ASML과 12인치 포토마스크 개발…2028년 D램에 차세대 EUV 첫 도입

삼성전자가 세계 최대 반도체 노광장비 기업 ASML과 반도체 노광 공정의 판도를 바꿀 차세대 표준 구축에 나선다. 수십 년간 반도체 미세 공정의 표준으로 자리 잡았던 6인치 포토마스크를 12인치로 전환하는 프로젝트다.

삼성전자는 8일 ASML의 12인치 포토마스크 공동 개발을 위한 협의체에 합류해 차세대 노광 표준 및 기술 개발에 협력하기로 했다고 밝혔다. 이번 이니셔티브에는 삼성전자를 비롯해 대만 TSMC, 미국 인텔 등 첨단 반도체 생산을 주도하는 4대 기업이 모두 참여한다. SK하이닉스도 참여를 긍정적으로 검토 중이다.