아스플로의 주가가 오름세다. 삼성전자가 1.4 나노 선언을 한 후 생산량 증대 등 적극 투자에 나선다는 소식이 영향을 끼친 것으로 풀이된다. 아스플로는 일본으로부터 전량 수입에 의존하던 반도체 공정 가스 공급에 사용되는 고청정 튜브를 국내 최초로 국산화에 성공하여 수년 째 삼성전자 및 SK하이닉스 등에 납품 중이다.

5일 14시 16분 아스플로는 전일 대비 6.59% 상승한 7,930원에 거래 중이다.

삼성전자가 2027년 1.4나노미터(㎚·1㎚는 10억분의 1m) 파운드리(반도체 수탁생산) 공정을 도입한다. ‘초격차’ 기술로 고객사를 늘려 선두 주자인 TSMC를 따라잡는다는 전략이다.

최시영 삼성전자 파운드리사업부 사장은 3일(현지시간) 미국 새너제이 시그니아호텔에서 열린 ‘삼성 파운드리 포럼’에서 “2025년 2㎚, 2027년에 1.4㎚ 공정을 도입하겠다”고 밝혔다. 1.4㎚ 공정 도입 시기를 밝힌 것은 삼성전자가 처음이다.

공장을 먼저 짓고 고객을 받는 ‘셸 퍼스트’ 전략을 도입해 2027년까지 생산능력을 현재의 세 배로 확대한다. 그동안 고객사가 주문한 뒤 그 수요에 맞춰서 라인을 운영했지만 앞으로는 라인을 먼저 구축한 뒤 고객을 받겠다는 의미다.

아스플로는 2001년 설립되어 일본으로부터 전량 수입에 의존하던 반도체 공정 가스 공급에 사용되는 고청정 튜브를 국내 최초로 국산화 한 후, 극청정 파이프, 밸브, 레귤레이터, 필터 등을 국산화하여 반도체 업체와 반도체 생산용 장비업체에 단품 혹은 모듈형태로 공급하고 있다. 아스플로의 핵심기술인 극청정 표면처리 기술을 바탕으로 튜브 소재 국산화 성공 후, 정밀가공과 특수 용접 기술을 확보하면서 밸브와 레귤레이터 등의 반도체 공정가스용 부품 생산에 필요한 일괄 생산 공정을 보유하고 있으며, 이와 더불어 금속분말 응용기술을 토대로 반도체 공정용 고성능 금속필터 개발에 성공함에 따라 반도체 공정가스 공급과 관련된 모든 종류의 제품과 기술을 확보하고 있다.

사업의 주요 시장은 Gas Plant에서 Gas Purifier / Gas cabinet까지 가스를 이송하는고청정 파이프 및 튜브류, 밸브류, 필터류 시장이다. 이들 제품은 직경1/4인치 ∼ 2인치 정도의 중급 구경을 가지는 제품들이 중심 제품군을 이루며, 삼성전자 및 SK하이닉스 등 반도체 제조업체가 동 제품을 직접 구입하는 시장 구조가 형성되어 있다.

삼성전자 및 SK하이닉스에서 반도체 FAB 건설계획을 세우는 경우 공정가스를 FAB 내부 반도체 장비까지 이송하기 위한 파이프 (주로 FAB 외부)와 튜브 (주로 FAB 내부) 배관 투자 계획을 포함하는데, 배관 부문에 아스플로의 제품이 공급되고 있다.

아스플로의 시장 전망은 반도체 산업 전망과 맥을 함께 한다. 아스플로는 사업보고서를 통해 "특히 삼성전자, SK하이닉스가 실행하는 신규 반도체 공장 건설계획은 아스플로의 현재 핵심제품과 연관되며, 공장 건설 후 설치하는 신규 장비는 당사의 미래 핵심제품과 연관된다."고 밝혔다.

2005년 품질인증을 통과한 이후 고순도 특수가스 라인 및 반도체 장비에 사용되는 고청정 튜브 및 피팅류 등을 생산하여 메모리 반도체 산업의 선두주자인 삼성전자 및 SK하이닉스에 꾸준하게 제품을 공급하고 있다는 점에서, 이번 삼성의 로드맵 발표로 수혜가 예상된다.


김광수 객원기자 open@hankyung.com