이 특허는 비정질탄소막(ACL)을 이용한 반도체 장비에 적용되는 기술로, 플라즈마 처리장치의 성능을 향상시켜 생산성을 높일 수 있다는 게 회사 측의 설명이다.
이 회사 관계자는 "신규제품 개발시 특허기술을 적용해 제품경쟁력을 강화할 예정"이라고 밝혔다.
한경닷컴 노정동 기자 dong2@hankyung.com
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