한국과학기술원(KAIST) 화학공학과 초미세 화학공정 연구센터의 우성일 교수 연구팀은 차세대 D램 반도체에 사용할 수 있는 우수한 성능의 정보저장용 'PST박막'을 개발했다고 29일 밝혔다.

연구팀은 실리콘 웨이퍼 위에 장착되는 이 박막의 경우 기존 박막과 달리 상대적으로 낮은 온도에서 만들 수 있기 때문에 전자회로에 끼치는 피해를 최소화할 수 있다고 설명했다.

김남국 기자 nkkim@hankyung.com