현대전자는 반도체 미세회로 선폭의 균일성을 확보하기 위한 필수 화학물질
인 유기반사방지막 신물질을 자체 개발했다고 11일 발표했다.

유기반사방지막은 반도체 소자의 제조 공정중 집적도를 높이기 위한
초미세회로를 형성하는 공정에서 사용되며 생산 수율및 성능을 좌우하는
회로선폭의 균일성을 유지시켜 주는 기능성 고분자 물질이다.

현대전자는 지난해 8월부터 유기반사방지 물질의 자체 개발에 착수,
10개월간의 연구끝에 기존 제품보다 성능이 뛰어나고 제조단가를 낮춘
신물질 개발에 성공했다.

현대는 이 신물질을 지난달 열린 초미세기술 학회인 "99 MNC
(Micro Process & Nano Technology)에 공개,우수성을 인정받았다고 밝혔다.

유기반사방지막 재료는 그동안 전량 수입에 의존해 왔으며 시장규모는
최근 2년간 급성장, 2000년에는 1억5천만달러 이상에 달할 것으로 전망된다.

새로 개발된 물질은 64메가 D램 및 2백56메가 D램 제조용 노광공정뿐 아니라
차세대 초미세 회로형성의 핵심기술인 아르곤 프로라이드 노광기술에도
사용할 수 있다.

아르곤 프로라이드 노광공정용 유기 반사방지막은 일부 연구소에서 실험실
규모의 샘플이 발표되고 있는 상황이다.

노광공정은 광원의 파장을 이용해 반도체 소자에 미세회로를 형성시키는
공정이다.

현대전자는 국내 중소기업인 (주)동진화성에 이 기술을 상업화할 수 있도록
이전했다.

동진화성은 현대가 제공한 기술로 유기반사방지막 물질을 만들어 현대측에
공급하게 된다.

현대는 이번 유기반사방지막의 개발로 연간 3천만달러이상의 수입대체
효과와 함께 향후 10년간 2천만달러이상의 로열티 수입을 올릴 수 있을
것으로 기대했다.

< 강현철 기자 hckang@ >

( 한 국 경 제 신 문 1999년 8월 12일자 ).