아펙스, 래디칼CVD 기술 개발
CVD장비는 반도체제조공정에서 화학물질을 균등하게 증착시키는데 사용되는 핵심 장비로 감압 및 플라스마 방식의 CVD가 지금까지 대종을 이뤄왔다.
아펙스는 새로운 래디칼 기술은 감압과 플라스마의 장점을 모은 것으로 초고열이 아닌 상태에서도 화학물질의 균일한 증착이 가능하다고 설명했다.
이 회사는 래디칼CVD기술에 대한 국제특허를 미국과 일본에 출원했다.
이 회사의 박희연 이사는 "래디칼CVD기술은 반도체제조공정에서 0.15㎛ 이하의 회로선폭 규격에도 적용할 수 있다"고 강조했다.
(043)279-6980
양홍모 기자 yang@hankyung.com
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