아펙스(대표 김상호)는 반도체웨이퍼 제조과정에서 화학물질 증착 효율성을 극대화할 수 있는 첨단 기술인 래디칼CVD(화학증착반도체장비) 기술을 개발했다고 30일 발표했다.

CVD장비는 반도체제조공정에서 화학물질을 균등하게 증착시키는데 사용되는 핵심 장비로 감압 및 플라스마 방식의 CVD가 지금까지 대종을 이뤄왔다.

아펙스는 새로운 래디칼 기술은 감압과 플라스마의 장점을 모은 것으로 초고열이 아닌 상태에서도 화학물질의 균일한 증착이 가능하다고 설명했다.

이 회사는 래디칼CVD기술에 대한 국제특허를 미국과 일본에 출원했다.

이 회사의 박희연 이사는 "래디칼CVD기술은 반도체제조공정에서 0.15㎛ 이하의 회로선폭 규격에도 적용할 수 있다"고 강조했다.

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양홍모 기자 yang@hankyung.com

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