21세기의 특징은 고도정보화사회로 요약할수 있다.

고도정보화사회에 대응하기 위해서는 빠르고도 간편한 정보전달이 필수적
이다.

이를 위해 과학자들은 다양한 기기의 집적도향상에 전력을 기울여왔다.

이러한 추세는 초고집적 회로, 고집적 기록매체 등의 발달로 이어졌으며
그 성과는 정보전달매체의 개발에 응용되어 우리의 삶을 질적으로 변화시키고
있다.

그러나 소자의 작동속도가 한계점에 다다른데다 정보기록매체의 용량이 따라
갈수 없는데 따른 문제점들이 연구활동및 생산현장에서 아직도 걸림돌이 되고
있다.

반도체의 경우 현재 기술로는 기가급의 개발에 만족할수 밖에 없다.

이보다 1천배나 빠른 테라급 반도체개발을 위해 세계각국이 힘을 기울이고
있지만 아직은 요원한 상태이다.

이를 극복하기 위해 이제까지와는 완전히 다른 발상으로 접근하거나 근본적
인 한계에 도달할 때까지 현재기술의 극한을 추구하고 이 둘의 공조를 통한
기술혁신 노력이 요구되고 있다.

같은 크기의 매체를 이용해 보다 많은 정보를 보다 빠른 속도로 전달하기
위해서는 기본소자의 크기를 획기적으로 줄이고 전력소모문제 또한 해결해야
한다.

10의 23승~10의 11승개의 원자로 구성된 벌크 또는 박막을 제조하는 기존
기술로는 불가능하다.

한단계 도약을 위해서는 양자역학을 기반으로 1~10의 3승개의 원자집합체로
구성되는 새로운 개념의 소자와 재료가 필요하다.

이 기술이 있어야 현재의 고밀도 자성기록매체 한계를 뛰어넘는 초고밀도
기록매체를 만들어낼수 있다.

단원자를 조작하는 수준의 기술을 이용해 만든 소자및 재료는 반도체 전자
정보통신산업의 비약적인 발전을 보장할 것으로 전망된다.

극미세식각및 석판기술, 단전자소자기술, 3~5족 양자소자기술은 기존 금속-
산화물-반도체 구조의 기가비트D램 단계를 뛰어넘을수 있는 대체기술로
꼽히고 있다.

이 기술은 이 분야만이 아니라 신소재및 환경등과 관련한 다양한 분야의
산업발전에 토대를 이룰 것으로 점쳐지고 있다.

우리나라는 이러한 나노(10억분의1) 테크놀로지를 구현시키기 위해 올해부터
본격연구에 착수한다.

한국표준과학연구원을 주축으로 한국과학기술원 서울대 등의 박사급 연구원
50여명이 참여하는 이 사업은 2005년까지 3년씩 3단계로 추진될 예정이다.

원자수준에서의 극미세구조 제작.제어및 평가를 위한 기반원천기술을 확보
하고 나노결정구조 재료의 창출, 응용기술개발및 산업화 기반조성이 최종목표
이다.

98년까지 1단계 사업기간 중에는 모두 90억원이 투입되며 <>중시양자구조
제작.제어및 특성평가기술 <>표면 극미세계 제작.제어및 특성평가기술과
표면원자제어기술 <>수십 나노미터급 나노결정재료의 결정립 제어및 특성
평가기술을 다듬는다는 계획이다.

2단계 사업기간 중에는 <>미시양자구조기술 <>표면반응 제어기술및 계면접합
기술확립을 통해 차세대 소자개발을 위한 방향을 설정하고 양자소자의 개념을
정립할 예정이다.

또 차세대 소자에 적합한 신물질을 개발, 수십 나노미터급 나노분말의 성형
기술및 가공기술을 이용해 신소자를 실제 시험제작한다는 구상이다.

이를 토대로 2005년까지 신기능 복합양자소자및 극초미세 가공기술을 정립
하고 원자수준에서의 계면제어기술을 확립토록 한다는 구상이다.

이와함께 10나노미터이하 크기의 나노결정립재료의 벌크화기술을 구현해
테라비트급 소자와 같은 초고밀도재료 등 차세대 기억.기능소자및 재료를
실용화할수 있도록 한다는 전략이다.

(한국경제신문 1997년 1월 3일자).