특허청은 최근 산업디자인 영역이 넓어지고 있으며 새로운 지적재산권이
등장하고 있는 추세에 따라 의장에 관한 보호를 강화해 나가기로 했다.
19일 특허청에 따르면 기업들의 이미지 제고전략과 함께 부상되고 있는
산업디자인의 분류및 심사기준이 제대로 정리되지 못하고 있는 점을
감안, 의장분류를 개선하는 한편 활자체및 일러스트레이션디자인등 의장유사
신지적재산권의 보호에 관한 연구를 적극 추진키로 했다는 것이다.
*** 분류체계 개선등 보호장치 연구 추진 ***
특허청은 이를 위해 국내자료의 수집 보강및 해외백화점등을 통해
최신해외 의장자료를 모으기로 하는 한편 기업의 전략등도 수집키로 했다.
또한 저작권과 의장권의 상호 보호방법을 비교연구, 논란이 계속되고
있는 양권리의 보호영역등을 정리하기로 하고 올 하반기에는 이에대한
세미나도 개최할 계획이다.

ⓒ 한경닷컴, 무단전재 및 재배포 금지