피에스케이는 8일 공시를 통해 기판 에싱 방법에 관한 특허를 취득했다고 밝혔다.

이번 발명은 에칭(etching) 공정 중 발생된 부산물(polymer) 또는 이온주입(implantation) 공정으로 인해 변형된 감광액(PR)의 효과적인 제거(Ashing) 방법에 관한 것이라고 회사측은 덧붙였다.

한경닷컴 정현영 기자 jhy@hankyung.com